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产品先容
产品特点

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PF-300T Flora 是一款流动性化学气相沉积（FCVD）装备，面向先进逻辑与存储的高深宽比沟槽等细小间隙，通过 UV 或蒸汽固化及氧化等处置惩罚工艺，可实现深宽比8∶1以上结构的无孔洞、无误差填充。自力 RPS 设计提升工艺稳固性与颗粒体现，双腔自力化学源控制提升薄膜一致性，产品现在已工业化应用，是先进芯片制程的主要装备之一。

产品特点
      - 高质量 SiO2 填充、高深宽比结构的薄膜沉积及固化能力
      - 功率可控的自力 RPS 设计，提升工艺稳固性与颗粒体现
      - 双腔自力化学源控制，提升双腔工艺的一致性
      - 可按客户应用选择设置蒸汽或 UV 固化
      - 通过 S2 清静认证和 F47 标准磨练