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产品特点

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VS-300T Astra-s SiN 是一款等离子体增强原子层沉积（PEALD）装备，聚焦高性能、多规格的氮化硅（SiN）介质薄膜细密沉积，应用于先进逻辑的金属栅极距离物侧墙、单扩散区隔离，以及存储位线侧墙、DRAM 位线填充等工艺，在片内匀称性、缺陷控制、台阶笼罩率及沉积速率等方面抵达国际先进水平。产品接纳紧凑型架构，可搭载4个反应腔，具有优异的坪效比和 CoO，知足逻辑、存储等客户先进手艺节点要求。

产品特点
      - 高质量 SiN 薄膜沉积能力
      - 优异的片内匀称性
      - 最多可搭载4个反应腔，知足高产能需求
      - 优异的坪效比和 CoO
      - 通过S2清静认证和F47标准磨练